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Sviluppo di film sottili di ossido di nichel per il rilevamento di gas ambientali

Sviluppo di film sottili di ossido di nichel per il rilevamento di gas ambientali

Ambi, Ravishankar Ramesh

Paperback

Physics

ISBN10: 6630076044
ISBN13: 9786630076042
Publisher: Edizioni Sapienza
Published: May 31 2026
Pages: 72
Weight: 0.24
Height: 0.17 Width: 6.00 Depth: 9.00
Language: Italian
Questo libro tratta la sintesi e la caratterizzazione del NiO depositato con il metodo della Chemical Bath Deposition utilizzando una soluzione di Ni(NO3)2.6H2O. L'indagine di diffrazione dei raggi X ha mostrato una struttura cristallina cubica del NiO con orientamento preferito lungo (200). Le immagini di microscopia elettronica a scansione hanno mostrato una struttura morfologica porosa composta da nanosheet. La rete di nanostrati e vuoti collegati tra loro offre un gran numero di percorsi e siti più reattivi per la diffusione del gas. L'immagine TEM rivela una dimensione media di 5 nm per il NiO. L'AFM rivela una rugosità di 107,9 nm per il NiO depositato a 7 h. La misurazione BET fornisce un'area superficiale specifica di 110,42 m2g-1 . Lo studio XPS ha mostrato la presenza di stati chimici misti Ni2+ e Ni3+ del Ni a circa 853,70 e 855,44 eV, rispettivamente, sulla superficie del NiO a causa della non stechiometria del film. L'energia di band gap diretta di circa 3,6-3,7 eV è stata ottenuta mediante misurazione UV-Vis per tutti i film di NiO. Il 45,6% di risposta a 100 ppm di NO2 a 200 C con T_risposta = 13 s e T_recupero = 146 s. La risposta più alta del 45,6% a 100 ppm di NO2 ha dimostrato che il NiO è un buon candidato per il monitoraggio ambientale a una temperatura di esercizio moderata di 200 C.

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