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Ossido di nichel: Materiale avanzato per l'applicazione dei supercondensatori

Ossido di nichel: Materiale avanzato per l'applicazione dei supercondensatori

Randive, Shankar
Lokhande, Balkrishna

Paperback

Chemistry

ISBN10: 6209469973
ISBN13: 9786209469978
Publisher: Edizioni Sapienza
Published: Jan 19 2026
Pages: 60
Weight: 0.21
Height: 0.14 Width: 6.00 Depth: 9.00
Language: Italian
Il capitolo 3 illustra la metodologia impiegata per sintetizzare elettrodi a film sottile di ossido di nichel attraverso una via acquosa, con particolare attenzione alla manipolazione dei parametri preparativi, tra cui ingredienti, concentrazioni, temperature di decomposizione e volumi di soluzione. L'analisi termogravimetrica iniziale del nitrato di nichel esaidrato ha indicato la formazione di residui stabili oltre i 573 K. Gli esperimenti successivi sono stati condotti variando le concentrazioni della soluzione di spruzzatura da 0,2 M a 1,0 M, mantenendo la temperatura di deposizione e la velocità di spruzzatura costanti rispettivamente a 623 K e 2 ml/min. L'ottimizzazione successiva è stata ottenuta esplorando varie temperature di decomposizione (da 623 K a 723 K) mantenendo una velocità di spruzzatura costante di circa 2 ml/min, utilizzando la concentrazione ottimale precedentemente identificata (0,8 M).Le condizioni ottimizzate (0,8 M e 673 K) sono state successivamente applicate alle deposizioni di film, con il volume della soluzione come parametro variabile, che variava da 30 a 110 ml. L'analisi elettrochimica dell'elettrodo AV-1 ottimizzato è stata effettuata utilizzando diversi elettroliti: KCl, LiCl2, Na2SO4, NaOH e KOH.

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