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Controllo del plasma elettronico mediante nanostrutturazione metallica

Controllo del plasma elettronico mediante nanostrutturazione metallica

Iqbal, Tahir

Paperback

Physics

ISBN10: 620930267X
ISBN13: 9786209302671
Publisher: Edizioni Sapienza
Published: Dec 7 2025
Pages: 52
Weight: 0.18
Height: 0.12 Width: 6.00 Depth: 9.00
Language: Italian
Questo libro descrive la ricerca sul controllo del plasma elettronico mediante nanostrutturazione metallica, che a sua volta fornisce un controllo efficiente dei plasmoni di superficie (SP). Questi SP sono onde che si propagano sull'interfaccia tra metallo nobile e dielettrico, la cui frequenza dipende dalla frequenza del plasma elettronico del metallo. L'accoppiamento efficiente degli SP con i fotoni nel dielettrico fornisce una localizzazione del campo su scala sub-lunghezza d'onda e queste sorgenti di luce su scala nanometrica sono necessarie nei sistemi di registrazione magnetica assistita dal calore (HAMR). La strutturazione dei metalli (reticolo di diffrazione rettangolare 1-D) su scala nanometrica consente di accoppiare i fotoni a questi SP. Oltre a ciò, di particolare interesse in questo caso è l'uso di un substrato ad alto indice di rifrazione, ad esempio il fosfuro di gallio (GaP), che è fotoluminescente e viene utilizzato per la compensazione della perdita ohmica su un film d'oro da 50 nm depositato su GaP. Il GaP viene anche utilizzato per emulare il laser a emissione superficiale a cavità verticale (VCSEL) al fine di fornire un'alternativa più economica alla sorgente luminosa utilizzata nella tecnologia HAMR.

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